В последнее время промышленное значение начинают приобретать новые способы отверждения лаковых композиций на основе ненасыщенных олигоэфиров: отверждение под действием УФ — и радиационного облучения. Замена традиционных термо- отверждающихся лакокрасочных материалов на материалы УФ — и радиационного отверждения позволяет уменьшить энергоемкость и стоимость покрытий, улучшить условия труда и повысить его производительность.
Формирование покрытий с использованием облучения протекает при низких температурах с высокой скоростью (от
20 с до 10 мин при УФ-облучении и несколько секунд — при радиационном облучении).
Отверждение олигоэфиров под действием УФ-облучения представляет собой фотохимически инициируемую полимеризацию по ненасыщенным С=СЧ связям (фотополимериза-
✓
Ция). Фотополимеризацию принято делить на прямую, фотоини — циируемую и фотосенсибилизированную.
В случае прямой фотохимической полимеризации УФ-излу — чение поглощается непосредственно ненасыщенными хромофорными группами мономера с последующим расщеплением молекулы на инициирующие полимеризацию радикалы. Для проведения прямой фотополимеризации не требуется большого количества энергии и мощных источников излучения. Поэтому для понижения энергии активации процесса фотополимеризацию активируют обычно с помощью фотоинициаторов и фотосенсибилизаторов.
К фотоинициаторам относятся соединения, которые под действием светового излучения переходят в электронно-возбужденное состояние и далее гомолитически распадаются на радика-
Их
Лы, инициирующие полимеризацию: С—»-С*—»-Кг + Иг*.
В качестве фотоинициаторов наиболее часто используют бензоин, его эфиры или их а-алкилзамещенные производные:
О И’
ОЯ"
I
Где К’=Н или алкил; К"=Н, СН3, изо-С3Н7, С6Н5.
Установлено, что фотохимическое расщепление соединения I на свободные радикалы происходит по схеме:
—С—С—^У—С — + -С—"~/ (2-36)
ОН ‘ ОН
Фотосенсибилизаторы — вещества, способные поглощать квант света и передавать энергию фотовозбуждения другому веществу, которое при этом образует свободные радикалы:
А+Их —>- А*
А*+В —А+В* (2.37)
В*+В —*■ И-+К-
В качестве фотосенсибилизаторов (А) чаще всего используют бензофенон и его производные, а также красители (флуорес — цин и др.)- Роль вещества В может выполнять мономер, растворитель или специальные добавки.
Для преодоления такого осложнения как ингибирование кислородом воздуха предложено проводить отверждение фотополимеризацией в атмосфере инертного газа или использовать фотоинициирующие системы, содержащие в качестве добавок амины, ускоряющие поверхностное отверждение. В качестве аминов применяют метилдиэтаноламин, триэтиламин и др.
Некоторые сложности при отверждении фотополимеризацией возникают при использовании пигментированных материалов. Главной причиной этого является совпадение диапазона поглощения светового излучения многих пигментов и большинства фотоинициирующих соединений.
Отверждение под действием ускоренных электронов (радиационное отверждение) протекает по механизму радиационной полимеризации. При действии излучения высокой энергии на вещество происходит ионизация с образованием катионов или катион-радикалов, сопровождающаяся выбросом электронов. Вторичные процессы с участием всех видов активных частиц в системе приводят в конечном счете к образованию в облучаемом веществе радикалов — наиболее долгоживущих активных частиц, а также катионов и анионов. В зависимости от условий проведения процесса радиационная полимеризация может протекать как по ионному, так и по радикальному механизму; при температуре выше О °С полимеризация протекает, как правило, по радикальному механизму, а при более низких температурах— по радикальному, катионному или анионному.
Мягкие условия проведения процесса радиационной полимеризации способствуют уменьшению доли реакции передачи цепи, что приводит к увеличению частоты сшивки, и вследствие этого — к улучшению физико-механических показателей покрытия и стойкости к действию растворителей. Существенным достоинством радиационного отверждения является возможность его применения для самых разнообразных пигментированных материалов.