Лако-красочные материалы — производство

В  качестве  источника  Ультрафиолетового излучения  используют  микроволновые  безэлектродные УФ-излучатели, ртутные лампы низкого давления и ртутные излучатели высочайшего давления. В кварцевой трубке (кварц имеет маленькое поглощение в УФ-области) находится заполняющий материал (ртуть, инертный газ и галогеновая добавка) под давлением от 1 до 10 бар, возбуждаемый для эмиссии излучения. В момент деяния разряда в насыщенном ртутью газе лампа обязана иметь лучшую рабочую температуру, чтоб можно было достигнуть высочайшего коэффициента полезного деяния. В данном случае ртутный излучатель высочайшего давления эмитирует соответствующий диапазон с основными линиями при 254, 302,313, 366, 405 и 456 нм.

Излучение в этой  волновой области обладает высочайшей энергией, достаточной для расщепления фотоинициатора и инициирования конструктивной полимеризации.  Мощность  используемых  излучателей  обычно  составляет  от  80 до 160 Вт/см. Длительность их  жизни в среднем 1500-2000 ч до того, как мощность свалится на 80%. Обычно изготавливают лампы с длиной дуги от 50 до 2500 мм. Длиной дуги именуется расстояние меж 2-мя электродами. Поперечник ламп варьируется от 19 до 28 мм зависимо от мощности

В энергетическом балансе Ультрафиолетового излучения на УФ-С, УФ-В и УФ-А спектр приходится 25-30%  энергии, видимая область диапазона имеет 10-15% и 50-60% приходится на ИК-излучение. При всем этом излучатели с микроволновым возбуждением имеют 35-40% энергии в ИК-диапазоне, а в УФ-области около 36%, что существенно выше, чем у разрядных ртутных ламп. Для сопоставления мощности  УФ-излучателей  получила  признание  специфическая  величина мощности излучения Вт/см.

Мощность излучения не может охарактеризовывать интенсивность и энергетическую плотность попадающего на отверждаемую пленку Ультрафиолетового излучения, потому что в этом случае нужно также принимать во внимание последующие причины: геометрию рефлектора и силу фокусировки, расстояние от излучателя до подложки , также атмосферу, в какой происходит отверждение, УФ-спектр.

Для фокусировки Ультрафиолетового излучения на подложке используют рефлекторы, которые собирают Ультрафиолетовое излучение в пучок либо отражают. В главном употребляют два типа рефлекторов. Самым  сильным  является  эллиптический  рефлектор,  создающий  фокальную линию, на которой находится максимум Ультрафиолетового излучения. Расстояние до окрашенной подложки  должно быть  точно  установлено. В  параболическом рефлекторе излучение отражается параллельно и фокальной полосы не появляется.

Потому что эмитируемая излучателем мощность ни при каких обстоятельствах не равна интенсивности попадающего на поверхность субстрата излучения, то УФ-установки характеризуются 2-мя величинами, для четкого измерения которых можно установить один прибор (УФ-фотометр).

Такими величинами являются облучение (Е, доза энергии) и сила облучения (H, УФ-интенсивность). В общем случае эти величины зависят от длины волны. Единицы измерения Е и Н относятся к определенному спектру длин волн и именуются спектральной силой облучения и спектральным облучением. В различных спектральных областях получаются различные значения Е и Н.

Облучение (доза энергии). Доза (облучение) – это общая энергия излучения, которая  попадает на объект. Она измеряется в Дж/см2 и связана с интенсивностью через время.Сила облучения (УФ-интенсивность).  Понятие интенсивности обрисовывает по определению фактически эмиссию излучения от источника. Но на практике обычно отклоняются от этого определения. Вошло в обычай определять интенсивность излучения на поверхности деталей.

Интенсивность – это наибольшая мощность излучения, достигшая поверхности субстрата. Она измеряется в Вт/см2. Интенсивность является чертой излучателя и рефлектора и не находится в зависимости от скорости продвижения изделий на полосы расцветки. Сила облучения является принципиальным параметром хим сшивки и установления степени блеска для УФ-материалов.

На  скорость  отверждения  также  влияет  состав  атмосферы,  в  которой происходит  отверждение.  Коротковолновое  УФ-С  излучение,  владеющее более высочайшей энергией абсорбции, активно поглощается кислородом воздуха (? < 200 нм). При понижении количества кислорода в зоне отверждения за счет введения азота либо углекислого газа скорость отверждения растет.

УФ-отверждение  в  атмосфере  инертного  газа  позволяет  значительно понизить содержание фотоинициатора, уменьшить количество товаров расщепления фотоинициаторов, отрешиться от прибавления аминных синергетиков, что уменьшает пожелтение покрытия, не использовать высокофункциональные мономеры, понизить мощность и дозу УФ-облучения.