8 июля, 2014 
Pokraskin В общем, бoльшая часть того, что было сказано о воздействии производственных критерий на анодное окисление в серной кислоте, также применимо и к анодированию в щавелевой кислоте. Как и при использовании других способах, КПД анодной цепи и наибольшая плотность покрытия при использовании как неизменного, так и переменного тока зависят от температуры. К примеру, в 5 % растворе щавелевой кислоты при температуре выше 50°С при использовании неизменного тока плотностью 1,2 А/дм2 (11 А/квадратный фут) покрытие вообщем не появляется, в то время как при использовании переменного тока плотностью 4 А/дм2 (37 А/квадратный фут) покрытие появляется при 60°С.
Результаты, приобретенные Хубнером, демонстрируют, что при снижении температуры высота покрытия возрастает. С повышением уровня рН при высочайшей температуре кривая плотности покрытия на графике проходит через наибольший показатель, а лучший уровень рН находится меж 1,5 и 2,5. Но наилучшими критериями при анодировании является более низкая температура, 25-40°С, а показатель рационального уровня рН примерно равен 0,5-1 для примерно 3-8 % щавелевой кислоты.
Дженни изучал связь меж концентрацией щавелевой кислоты, электронным напряжением и шириной покрытия при использовании неизменного и переменного тока. В общем, при анодировании неизменным током высота покрытия возрастает благодаря высочайшей температуре, образующейся в самом покрытии, также отчасти благодаря эффекту выпрямления и выделению кислорода.
Добавление щавелевой кислоты может осуществляться на основании употребления тока. Употребляется приблизительно 0,13-0,14 г щавелевой кислоты на ампер-час, в то время как 0,08-0,09 г алюминия идет в раствор, образуя оксалат алюминия. К каждой части по массе растворенного алюминия добавляются 5 частей по массе щавелевой кислоты. При увеличении содержания алюминия плотность тока понижается. Если содержание алюминия приравнивается 3 % раствор бракуется
Опубликовано в рубрике 
Метки: 