Толщина анодной пленки пористого типа, приобретенной при использовании стандартных процессов анодирования серной, хромовой и щавелевой кислотами, может оказать нехорошее воздействие на анодируемый металл, если он обладает малой шириной и может быть растворен во время обычного роста пленки. Примером может послужить алюминиевое покрытие, осажденное способом термовакуумного испарения , применяемое для отражателей на оптических инструментах, также на фронтальных фарах автомобилей, в электронных фонарях и т.д. Для получения таковой пленки, которая добивается в толщину, обычно, 0,5 микрон (0,02 мил), нужно использовать смеси, в каких может быть образование покрытия барьерного типа.
Но важнейшим типом барьерного покрытия в индустрии является тот, в каком реализуются такие значительные свойства, как тонкость и в то же время способность сопротивляться высочайшему электронному напряжению при использовании его в качестве диэлектрического материала в электролитических конденсаторах. В этих целях употребляется алюминий высочайшей степени чистки, без примесей, в форме фольги шириной 0,085-0,10 мм. Раз в год миллионы квадратных метров материала подвергаются анодированию, потом из него делаются отдельные детали, любая из которых содержит менее чем несколько граммов металла.
Барьерное покрытие завлекло повышенное внимание исследователей также и из-за принадлежности этих пленок к группе вентильных металлов. Было проведено много исследовательских работ. Они были посвящены образованию покрытия, свойствам и структуре оксида, механизму переноса ионов, свойствам тока эмиссии, электролюминесценции, также зависимости остаточного тока утечки от электронного поля.